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        技術(shù)文章/ Technical Articles

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        產(chǎn)品分類 / PRODUCT

        曝光設(shè)備原理

        更新時(shí)間:2024-11-14      瀏覽次數(shù):176

        我們將解釋曝光設(shè)備的測量原理。曝光設(shè)備由光源、偏光鏡、光掩模、聚光鏡、工作臺(tái)、傳送硅片的機(jī)械手等組成。

        鏡頭和光掩模的設(shè)計(jì)精度高,平臺(tái)的運(yùn)行精度也很高。操作過程中,曝光目標(biāo)精確固定在載物臺(tái)上。在操作中,每次曝光時(shí)載物臺(tái)都會(huì)移動(dòng),在曝光的物體上創(chuàng)建大量圖案。

        從光源發(fā)出短波長的強(qiáng)光,偏光透鏡調(diào)整光的方向,然后照射到光掩模上,光掩模是配置電路圖案的原型。穿過光掩模的光被聚光透鏡聚焦,并在曝光的目標(biāo)上描繪出非常小的電路圖案。

        一旦整個(gè)曝光目標(biāo)被曝光,它就會(huì)被機(jī)器人或其他設(shè)備運(yùn)輸。根據(jù)產(chǎn)品的不同,曝光目標(biāo)會(huì)滲透到液體中,有些產(chǎn)品的設(shè)計(jì)旨在實(shí)現(xiàn)更準(zhǔn)確的曝光。


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