色网站在线,AV日韩伦理VA,一木道久久久久久久国产,欧美牲交A欧牲

<thead id="vm794"><dfn id="vm794"></dfn></thead>
    <span id="vm794"></span>

<label id="vm794"></label>
<span id="vm794"><small id="vm794"></small></span>
<thead id="vm794"></thead>

  1. <li id="vm794"></li>

        歡迎來到深圳市京都玉崎電子有限公司!

        13717032088

        技術(shù)文章/ Technical Articles

        我的位置:首頁  >  技術(shù)文章  >  干法刻蝕與濕法刻蝕

        產(chǎn)品分類 / PRODUCT

        干法刻蝕與濕法刻蝕

        更新時間:2025-03-21      瀏覽次數(shù):12

        在半導(dǎo)體制造中有兩種基本的刻蝕工藝:干法刻蝕和濕法腐蝕。


        干法刻蝕,是利用氣態(tài)中產(chǎn)生的等離子體,通過經(jīng)光刻而開出的掩蔽層窗口,與暴露于等離子體中的硅片行物理和化學(xué)反應(yīng),刻蝕掉硅片上暴露的表面材料的一種工藝技術(shù)法[1]。該工藝技術(shù)的突出優(yōu)點在于,可以獲得極其精確的特征圖形。超大規(guī)模集成電路的發(fā)展,要求微細化加工工藝能夠嚴格的控制加工尺寸,要求在硅片上完成極其精確的圖形轉(zhuǎn)移。任何偏離工藝要求的圖形或尺寸,都可能直接影響產(chǎn)品性能或品質(zhì),給生產(chǎn)帶來無法彌補的損害。由于干法刻蝕技術(shù)在圖形軼移上的突出表現(xiàn),己成為亞微米尺寸下器件刻蝕的最主要工藝方法。在特征圖形的制作上,已基本取代了濕法腐蝕技術(shù)。


        對于濕法腐蝕,就是用液體化學(xué)試劑(如酸、堿和溶劑等)以化學(xué)的方式去除硅片表面的材料。當然,在通過濕法腐蝕獲得特征圖形時,也要通過經(jīng)光刻開出的掩膜層窗口,腐蝕掉露出的表面材料。但從控制圖形形狀和尺寸的準確性角度而言,在形成特征圖形方面,濕法 腐蝕一般只被用于尺寸較大的情況(大于3微米)。由于這一特點,濕法腐蝕遠遠沒有干法刻蝕的應(yīng)用廣泛。但由于它的高選擇比和批量制作模式,濕法腐蝕仍被廣泛應(yīng)用在腐蝕層間膜、去除干法刻蝕殘留物和顆粒等工藝步驟中。


        拿起手機掃一掃
        地址:龍華新區(qū)梅龍大道906號創(chuàng)業(yè)樓
        郵箱:ylx@tamasaki.com
        聯(lián)系人:袁蘭香

        Copyright © 2025深圳市京都玉崎電子有限公司 All Rights Reserved    備案號:粵ICP備2022020191號

        技術(shù)支持:化工儀器網(wǎng)    管理登錄    sitemap.xml

        服務(wù)熱線

        13717032088

        拿起手機掃一掃

        返回頂部